WPS-K3

 
Pulsing current: dòng điện xung
Dòng điện hàn xung (pulsed welding current) là một chế độ đặc biệt trong hàn hồ quang (GMAW, GTAW, FCAW...) khi dòng điện được điều khiển theo dạng xung cao – xung thấp thay vì duy trì liên tục. Nó được áp dụng trong các trường hợp sau:
 
✅ 1. Hàn vật liệu mỏng
Lý do: Giảm nhiệt đầu vào (heat input), tránh cháy thủng.
Ứng dụng: Hàn inox mỏng, nhôm mỏng, chi tiết chính xác.

✅ 2. Hàn ở vị trí khó (trần, đứng)
Lý do: Dòng xung giúp kiểm soát bể hàn tốt hơn, giảm chảy xệ.

✅ 3. Hàn nhôm và hợp kim nhôm
Lý do: Pulsed MIG/TIG giúp kiểm soát hồ quang ổn định, giảm bắn tóe, tạo mối hàn đẹp.

✅ 4. Hàn thép hợp kim cao hoặc thép không gỉ
Lý do: Giảm biến dạng nhiệt, hạn chế nứt nóng.

✅ 5. Hàn tự động hoặc robot
Lý do: Dễ lập trình, kiểm soát chất lượng mối hàn đồng đều.

Nguyên lý cơ bản
Dòng điện dao động giữa:

• Dòng nền (Background Current): duy trì hồ quang nhưng không làm chảy nhiều kim loại.
• Dòng xung (Peak Current): tạo giọt kim loại và chuyển giọt vào vũng hàn.
• Tần số xung (Hz) và tỷ lệ thời gian xung ảnh hưởng đến hình dạng mối hàn.

WPS-K2

 

Power Source: thuộc tính nguồn hàn.

• CC = Constant Current: dòng điện không đổi (SMAW, GTAW - các phương pháp hàn thủ công).
• CV = Constant Volt: điện thế không đổi (FCAW, GMAW, SAW - các phương pháp hàn tự động hoặc bán tự động).

WPS-K1

 

Heat input: nhiệt lượng cấp vào.

Công thức tính toán theo mỗi đường hàn và dựa vào thông số hàn thiết lập trên WPS.

Thợ hàn thực hiện theo các thông số khuyến cáo và giới hạn giá trị Heat Input.

Cùng cách tính nhưng kết quả đánh giá theo ISO cho kết quả thấp hơn AWS, lý do nằm ở hệ số ảnh hưởng nhiệt k-factor.

Hướng dẫn tính toán heat input https://blog.duybien.com/2023/09/heat-input-calculation.html , kèm các ví dụ https://blog.duybien.com/2024/11/blog-post_734.html.

WPS-J3

 

Trailing gas: ống chụp khí đường hàn lớp phủ.

Áp dụng: hàn Ti tan, Zirco .... những vật liệu đưa ra trong QW-408.10.

Có thể hàn trong buồng (closed chamber - xem [L10]) để trailing toàn bộ đường hàn hạn chế rổ khí.

Phương pháp hàn sử dụng trailing rất ít sử dụng và nếu sử dụng thì việc vệ sinh làm sạch phải đảm bảo trước khi hàn.

ASME IX: QW-408.10 For P-No. 10I, P-No. 10J, P-No. 10K, P-No. 51 through P-No. 53, and P-No. 61 through P-No. 62 metals, the deletion of trailing gas, or a change in the nominal composition of the trailing gas from an inert gas to a mixture including non-inert gas(es), or a decrease of 10% or more in the trailing gas flow rate.

WPS-J2

 

Backing gas / Purging gas: khí xông chân khi hàn

Hàn inox, phi kim loại, ... những vật dễ bị oxy hoá khi hàn mối hàn đối đầu.

Mục đích chính là đẩy Oxy bên trong để hạn chế phản hứng hoá học gây oxy hoá hoặc tạo lớp oxide bề mặt.

Thông thường khí dùng là Argon, hoặc trộn với thành phần N2, ...

Lưu ý quan trọng: việc xông khí bên trong và tiếp cận vào bên trong rất nguy hiểm khi lượng O2 bị hạn chế. Argon nặng hơn O2 nên O2 có xu hướng di chuyển lên phía trên, nên khi hàn tại những vị trí thấp phải cẩn thận an toàn hoặc sử dụng thiết bị đo khí phải được kiểm tra an toàn trước khi bắt đầu làm việc.